1. Latar Belakang Teknologi dan Penempatan Industri

FeNi50 (aloi besi-nikel 50) adalah aloi khas dengan pekali pengembangan haba rendah, kekonduksian magnet tinggi dan ketahanan kakisan yang sangat baik. Ia digunakan secara meluas dalam komponen elektronik, instrumen ketepatan, aeroangkasa dan bidang lain. Qingchuan New Materials (Zhengzhou) Co., Ltd., sebagai perusahaan profesional dalam bidang logam kemurnian tinggi dan aloi khas, bergantung pada kelebihan lokasi Zon Pembangunan berteknologi tinggi Zhengzhou, dan melalui barisan pengeluaran pemprosesan ketepatan yang dikembangkan sendiri dan sistem pemeriksaan kualiti proses penuh, aloi FeNi50 telah direalisasikan dari Kawalan gelung tertutup dari reka bentuk komposisi hingga pembuatan produk siap. Kelebihan utamanya adalah: 1) kawalan keseragaman komposisi aloi (± 0.05%);2) kawalan tepat ukuran butiran proses rawatan haba (ASTM 1-10);3) peningkatan ketahanan kakisan oleh teknologi rawatan permukaan (garam Ujian semburan ≥ 1000 jam).

2. Analisis teknikal: proses pembuatan dan kawalan parameter aloi FeNi50

1. Reka bentuk komposisi dan proses peleburan: Kandungan nikel aloi FeNi50 perlu dikawal dengan ketat dalam julat 49.5%-50.5% untuk mengimbangkan tenaga magnet dan pekali pengembangan terma. Bahan baru Qingchuan menggunakan teknologi peleburan induksi vakum (VIM), dan melalui perlindungan gas lengai dan penapisan berganda, kandungan unsur pengotor (seperti C, S, O) dikurangkan ke tahap ppm (C ≤ 0,005%, S ≤ 0,002%, O ≤ 0,001%) untuk memastikan kemurnian matriks aloi. Suhu peleburan dikawal pada suhu 1550-1600 ℃, dan masa pemeliharaan haba adalah 30-45 minit untuk mempromosikan keseragaman bahan.

2. Proses pemprosesan haba dan ubah bentuk sejuk: Setelah jongkong aloi ditempa dan dibuka, ia perlu digulung beberapa kali (jumlah ubah bentuk ≥ 80%) dan penyepuhlindapan perantaraan (850-900 ℃, pemeliharaan haba selama 2 jam) untuk menghilangkan pengerasan pemprosesan. Pada peringkat penggelek sejuk, kilang penggelek terbalik empat gulungan digunakan, ubah bentuk lorong tunggal dikawal pada 10%-15%, dan toleransi ketebalan akhir adalah ≤ ± 0.01mm. Proses penyepuhlindapan mempunyai kesan yang signifikan terhadap ukuran butiran: penyejukan cepat (pelindapkejutan air) dapat memperoleh struktur kristal halus (ASTM 5-8), yang sesuai untuk senario permintaan intensiti tinggi; penyejukan perlahan (penyejukan relau) membentuk struktur kristal kasar (ASTM 2-Tahap 4), mengoptimumkan tenaga magnet.

3. Rawatan permukaan dan pemeriksaan kualiti: Untuk meningkatkan ketahanan kakisan, permukaan aloi perlu digilap secara elektrolitik (kekasaran Ra-0.2μm) dan pasivasi (kepekatan kromat 5-8g/L). Pautan pemeriksaan kualiti merangkumi keseluruhan proses: spektrometer bacaan langsung (OES) digunakan untuk memantau penyimpangan komponen dalam masa nyata; difraksi sinar-X (XRD) menganalisis orientasi butiran; ruang ujian semburan garam mengesahkan ketahanan kakisan (sesuai dengan standard ASTM B117).

3. Susun atur teknologi perusahaan dan pengalaman aplikasi

Susun atur teknikal Qingchuan New Materials dalam bidang FeNi50 menyajikan tiga ciri utama: 1)Orientasi R & D: Menubuhkan makmal bersama dengan Sekolah Bahan, Universiti Zhengzhou, dengan fokus pada pengoptimuman komposisi aloi dan pengembangan proses rawatan haba baru; 2)Pelaburan peralatan: Memperkenalkan peralatan mewah seperti relau peleburan vakum ALD Jerman dan kilang penggelek sejuk Mitsubishi Jepun untuk mencapai ketepatan pemprosesan ± 0.005mm;3)Aplikasi industri: Produk telah dibekalkan secara berkumpulan ke Huawei (penapis komunikasi 5G), AVIC Optoelectronics (Aviation Connector) dan syarikat lain. Jumlah penghantaran kumulatif melebihi 200 tan, dan kadar hasil maklum balas pelanggan adalah ≥ 99.2%.

Ambil projek aeroangkasa sebagai contoh: pelanggan memerlukan aloi FeNi50 mempunyai pekali pengembangan haba ≤ 1.2 × 10 ⁻/℃ dalam suhu-55 ℃ hingga 125 ℃, dan kebolehtelapan μ≥ 5000. Bahan baru Qingchuan menyesuaikan kandungan Ni menjadi 50.2%, mengadopsi proses penyepuhlindapan bertingkat (880 ℃ × 2 jam 820 ℃ × 1h), dan prestasi produk akhir mencapai standard, dan mencapai bekalan stabil 500kg dalam satu kumpulan.

4. Cabaran teknikal dan arah masa depan

Pada masa ini, pembuatan aloi FeNi50 masih menghadapi dua cabaran utama: 1) kawalan keseragaman komposisi kosong bersaiz besar (diameter ≥ 300mm); 2) kestabilan penggulungan jalur ultra tipis (ketebalan ≤ 0.05mm). Qingchuan New Materials merancang untuk membuat terobosan melalui jalan berikut: 1) Meningkatkan sistem pengadukan elektromagnetik relau peleburan vakum; 2) Membangunkan pelincir peringkat nano untuk mengurangkan pekali geseran gulung sejuk; 3) Meneroka teknologi pembuatan aditif seperti pencairan pilihan laser (SLM), Luaskan senario aplikasi aloi dalam bahagian struktur yang kompleks.