1. Kedudukan teknikal dan nilai teras aloi ketepatan pengembangan tetap besi-nikel

Aloi ketepatan pengembangan tetap besi-nikel adalah sejenis bahan logam khas yang menyedari pekali pengembangan haba (CTE) tertentu melalui reka bentuk komposisi. Nilai utamanya adalah untuk menyelesaikan masalah ketidakcocokan ukuran yang disebabkan oleh perubahan suhu dalam instrumen ketepatan, peralatan optik, pembungkusan elektronik dan bidang lain. Ambil aloi berasaskan Fe-Ni sebagai contoh, julat pekali pengembangan khasnya adalah (1.0 ~ 12.0)× 10 ⁻/℃, kandungan Ni dapat disesuaikan (30% ~ 50%) dan tambahkan elemen seperti Co dan Mn untuk mencapai peraturan yang tepat. Qingchuan New Materials (Zhengzhou) Co., Ltd. bergantung pada model pengoptimuman komposisi yang dikembangkan sendiri untuk mencapai julat turun naik pekali pengembangan ≤ ± 0.5 × 10 ⁻ ⁶/℃, yang memenuhi syarat ketat kenderaan wafer semikonduktor, acuan berketepatan tinggi dan senario lain.

2. Analisis susun atur teknikal dan kapasiti pengeluaran bahan baru Qingchuan

Qingchuan New Materials terletak di Zon Pembangunan Perindustrian berteknologi tinggi Zhengzhou, dengan bengkel standard moden dan barisan pengeluaran khas untuk aloi khas. Peralatan terasnya merangkumi: 1) Tungku peleburan induksi vakum (kapasiti dinilai 500kg, darjah vakum ≤ 1 × 10 ⁻ ³ Pa), yang dapat mencapai peleburan seragam bahan mentah dengan kemurnian tinggi; 2) unit penggelek sejuk multi-gulungan (ketebalan penggulungan minimum 0.02mm, Ketepatan bentuk plat ± 5μm) untuk memenuhi keperluan pengeluaran jalur nipis ketepatan; 3) Relau penyepuhlindapan berterusan (keseragaman suhu ± 3 ℃, ketepatan kawalan atmosfera ± 0.5% Osten) untuk memastikan kestabilan struktur aloi. Syarikat ini dilengkapi dengan peralatan ujian seperti penganalisis elemen ICP-OES dan meter pengembangan termal laser, yang dapat mewujudkan kawalan kualiti proses penuh dari bahan mentah hingga produk siap. Produk ini memenuhi standard ASTM B753, GB/T 15018 dan standard lain.

3. Kes aplikasi khas: pengembangan kenderaan wafer semikonduktor yang disesuaikan

Dalam projek pembuatan wafer 12 inci, pelanggan memerlukan bahan kenderaan pada suhu-40 ℃ ~ Pekali pengembangan dalam julat suhu 150 ° C sepadan dengan silikon monokristalin (2.6 × 10 ° C/° C) ≥ 95%. Pasukan teknikal Qingchuan mencapai kejayaan teknologi melalui langkah-langkah berikut: 1) Reka bentuk komposisi: menggunakan formula Fe-36Ni-0.3Co, mensimulasikan titik perubahan fasa melalui perisian Thermo-Calc untuk memastikan bahawa aloi adalah satu austenit tunggal dalam julat suhu perkhidmatan; 2) Pengoptimuman proses: mengadopsi proses penyepuhlindapan tiga peringkat (650 ℃ × 4 jam → 780 ℃ × 2 jam → 500 ℃ × 6 jam), tekanan sisa dikawal pada ≤ 15MPa;3) Pemesinan ketepatan: pusat pemesinan penghubung lima paksi mencapai toleransi bentuk ≤ ± 3μm, kekasaran permukaan Ra-0.2μm. Produk akhir telah disahkan oleh pelanggan, ralat kedudukan penghantaran wafer adalah ≤ 0,01mm, dan jangka hayat lebih dari 500,000 kali, yang 3 kali lebih tinggi daripada skema aloi aluminium tradisional.

4. Parameter teknikal dan panduan pemilihan

Bahan baru Qingchuan dapat memberikan spesifikasi produk aloi pengembangan tetap besi-nikel berikut: 1) Julat ketebalan: 0.02mm ~ 10mm;2) Julat lebar: 10mm ~ 600mm;3) Pekali pengembangan khas: 2.3 × 10 ⁶/℃(Fe-36Ni), 4.7 × 10 ⁻/℃(Fe-42Ni), 9.8 × 10 ⁻/℃(Fe-50Ni);4) Keadaan permukaan: 2B, BA, Cermin No.4, 8K; 5) borang penghantaran: gegelung, kepingan, bahagian berbentuk khas. Semasa memilih model, kita perlu memberi tumpuan kepada: 1) pemadanan julat suhu perkhidmatan dan titik peralihan fasa aloi; 2) keserasian pekali pengembangan dan bahagian yang sepadan; 3) pengaruh teknologi pemprosesan terhadap kestabilan organisasi. Pasukan sokongan teknikal syarikat dapat menyediakan perkhidmatan proses penuh dari pemilihan bahan hingga pengesahan proses.